打破技术垄断,助力SEMI行业设备国产化进程

  工艺介绍

  涂胶显影仪是芯片制成光刻工艺段的重要设备,用于实现光刻胶的超薄胶膜。分为两个步骤:一是涂胶工艺:光刻胶通过胶头滴到晶圆表面,真空吸盘吸收晶圆高速旋转均匀涂胶。

烘烤坚膜

  二、均胶完成后,烘烤坚膜,通过加热盘挥发光刻胶中的有机溶剂,生成光刻胶的超薄膜。

  课题

  课题

  1.加热速度不统一,温差波动,

  晶圆加热不均匀

  一旦加热盘加热不均匀,光刻胶中的一些有机溶剂可能无法有效挥发,影响最终胶膜的质量。

  2.人工调盘,过程复杂,耗时,

  解决方案

  通过平均温度控制技术,

  实现高精度均匀加热

  通过优化算法和MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法(我们称之为均匀温度控制技术),使各区域的温度控制精度达到±0.05℃,实现了温度均匀性R=0.275。

温差

  实验数据表明,温差可控制为原来的1/5

  调整时间只需2秒,

  完全取代人工调盘

  只需简单设置,整个空间或表面就可以分布相同的指定量。实现了原需要人工调整的工作的全自动化,大大降低了人工成本的投资,减少了对熟练工人的依赖。

  控制系统

  机械自动化控制器NJ/NX系列

  NX系列EtherCAT连接器单元

  NX一系列温度输入单元

  NX系列数字输出单元

NX系列数字输出单元

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